Modeling Halo Implant Failures in MOS Sub-Micron Technology

Type de document :
Communication dans un congrès
LATW: Latin American Test Workshop, Mar 2005, Salvador, Bahia, Brazil. 6th IEEE Latin American Test Workshop, pp.29-33, 2005
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Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : lundi 16 octobre 2006 - 08:38:39
Dernière modification le : jeudi 15 mars 2018 - 16:56:07

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00106513, version 1

Citation

Arnaud Regnier, Jean-Michel Portal, Rachid Bouchakour, Michel Renovell. Modeling Halo Implant Failures in MOS Sub-Micron Technology. LATW: Latin American Test Workshop, Mar 2005, Salvador, Bahia, Brazil. 6th IEEE Latin American Test Workshop, pp.29-33, 2005. 〈lirmm-00106513〉

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