Comparison Between 0.13 µm PD-SOI Gated Diode and non Gated Diode through DC TCAD Simulations - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
Communication Dans Un Congrès Année : 2005

Comparison Between 0.13 µm PD-SOI Gated Diode and non Gated Diode through DC TCAD Simulations

Christophe Entringer
  • Fonction : Auteur
P. Flatrese
  • Fonction : Auteur
Pascal Salomé
  • Fonction : Auteur
Fichier non déposé

Dates et versions

lirmm-00106519 , version 1 (16-10-2006)

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00106519 , version 1

Citer

Christophe Entringer, P. Flatrese, Pascal Salomé, Pascal Nouet, Florence Azaïs. Comparison Between 0.13 µm PD-SOI Gated Diode and non Gated Diode through DC TCAD Simulations. EUROSOI'05, Jan 2005, Grenade, Spain. ⟨lirmm-00106519⟩
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