Adaptation d’un processus de construction d’abstractions basé IDM à des modèles bi-niveaux éléments / méta-éléments Application aux logiques de description - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier Access content directly
Conference Papers Year : 2008

Adaptation d’un processus de construction d’abstractions basé IDM à des modèles bi-niveaux éléments / méta-éléments Application aux logiques de description

Abstract

L'Analyse Relationnelle de Concepts (ARC) permet la découverte d'abstractions dans différents artéfacts logiciels : code Java ou modèle UML par exemple. Une approche utilisant le paradigme d'Ingénierie Dirigée par les Modèles (IDM) appliqué à l'ARC permet d'obtenir un processus d'abstraction générique : il est possible de construire des abstractions pour n'importe quel artéfact d'entrée (UML ou Java par exemple) en paramétrant simplement l'approche pour le type d'artéfact d'entrée. Cette approche a jusqu'ici été appliquée uniquement à des artéfacts à un niveau (modèles de classes essentiellement). Nous proposons ici une étude pour l'application à des artéfacts à deux niveaux, mélangeant des éléments et des méta-éléments (mélange de classes et d'instances, ou d'associations et de liens par exemple). Cette étude est appliquée aux logiques de description pour lesquelles nous avons développé une extension de l'outil ARC-IDM.

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Dates and versions

lirmm-00273942 , version 1 (16-04-2008)

Identifiers

  • HAL Id : lirmm-00273942 , version 1

Cite

Xavier Dolques, Jean-Rémy Falleri, Marianne Huchard, Clémentine Nebut. Adaptation d’un processus de construction d’abstractions basé IDM à des modèles bi-niveaux éléments / méta-éléments Application aux logiques de description. LMO: Langages et Modèles à Objets, Mar 2008, Montréal, Canada. pp.121-138. ⟨lirmm-00273942⟩
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