Utilisation de structures tolérantes aux fautes pour augmenter le rendement - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier Access content directly
Conference Papers Year : 2008

Utilisation de structures tolérantes aux fautes pour augmenter le rendement

Abstract

Les technologies nanométriques, malgré les avantages liés à leur miniaturisation, comportent un certain nombre d'inconvénients liés à leur processus de fabrication. Pour résoudre ces problèmes, les structures tolérantes aux fautes pourraient être utilisées, dans le futur, pour augmenter le rendement en tolérant certains défauts de fabrication. Ces structures seraient alors détournées de leur objectif actuel qui est de tolérer des défauts en ligne (pendant le fonctionnement du circuit). Dans cet article, l'architecture des circuits est modifiée pour obtenir une structure tolérante aux fautes. Cette structure est ensuite étudiée et testée pour savoir dans quelles conditions, elle permet d'augmenter le rendement de fabrication.
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Dates and versions

lirmm-00341811 , version 1 (26-11-2008)

Identifiers

  • HAL Id : lirmm-00341811 , version 1

Cite

Julien Vial, Christian Landrault, Alberto Bosio, Patrick Girard, Serge Pravossoudovitch, et al.. Utilisation de structures tolérantes aux fautes pour augmenter le rendement. JNRDM 2008 - 11e Journées Nationales du Réseau Doctoral de Microélectronique, May 2008, Bordeaux, France. ⟨lirmm-00341811⟩
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