Low Current Application Dedicated Process Characterization Method - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Low Current Application Dedicated Process Characterization Method

Christine Carvalho De Matos  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00268523

Soumis le : mardi 1 avril 2008-09:27:39

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:50

Fichier non déposé

Dates et versions

lirmm-00268523 , version 1 (01-04-2008)

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00268523 , version 1

Citer

Wenceslas Rahajandraibe, Christian Dufaza, Daniel Auvergne, Bruno Cialdella, Bernard Majoux, et al.. Low Current Application Dedicated Process Characterization Method. ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures, Cork, Ireland, pp.41-44. ⟨lirmm-00268523⟩

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