Low Current Application Dedicated Process Characterization Method

Type de document :
Communication dans un congrès
ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures, Cork, Ireland, pp.41-44, 2002
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Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : mardi 1 avril 2008 - 09:27:39
Dernière modification le : jeudi 24 mai 2018 - 15:59:20

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  • HAL Id : lirmm-00268523, version 1

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Citation

Wenceslas Rahajandraibe, Christian Dufaza, Daniel Auvergne, Bruno Cialdella, Bernard Majoux, et al.. Low Current Application Dedicated Process Characterization Method. ICMTS'02: International Conference on Microelectronic Test Structures, Cork, Ireland, pp.41-44, 2002. 〈lirmm-00268523〉

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