Améliorer le rendement grâce aux structures tolérantes aux fautes

Résumé : Les technologies nanométriques, malgré les avantages liés à leur miniaturisation, comportent un certain nombre d'inconvénients liés à leur processus de fabrication. Pour résoudre ces inconvénients, les structures tolérantes aux fautes pourraient être utilisées, dans le futur, pour augmenter le rendement en tolérant certains défauts de fabrication. Ces structures seraient alors détournées de leur objectif actuel qui est de tolérer des défauts en ligne (pendant le fonctionnement du circuit). Dans cet article, l'architecture des circuits est modifiée pour obtenir une structure tolérante aux fautes. Cette structure est ensuite étudiée et testée pour savoir dans quelles mesures, elle permet d'augmenter le rendement de fabrication.
Type de document :
Communication dans un congrès
Journées des Doctorants de l'Ecole Doctorale I2S, France. 2008
Liste complète des métadonnées

https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00341806
Contributeur : Arnaud Virazel <>
Soumis le : mercredi 26 novembre 2008 - 09:48:59
Dernière modification le : jeudi 24 mai 2018 - 15:59:24

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00341806, version 1

Collections

Citation

Julien Vial, Alberto Bosio, Patrick Girard, Christian Landrault, Serge Pravossoudovitch, et al.. Améliorer le rendement grâce aux structures tolérantes aux fautes. Journées des Doctorants de l'Ecole Doctorale I2S, France. 2008. 〈lirmm-00341806〉

Partager

Métriques

Consultations de la notice

49