Améliorer le rendement grâce aux structures tolérantes aux fautes - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier Access content directly
Conference Papers Year : 2008

Améliorer le rendement grâce aux structures tolérantes aux fautes

Abstract

Les technologies nanométriques, malgré les avantages liés à leur miniaturisation, comportent un certain nombre d'inconvénients liés à leur processus de fabrication. Pour résoudre ces inconvénients, les structures tolérantes aux fautes pourraient être utilisées, dans le futur, pour augmenter le rendement en tolérant certains défauts de fabrication. Ces structures seraient alors détournées de leur objectif actuel qui est de tolérer des défauts en ligne (pendant le fonctionnement du circuit). Dans cet article, l'architecture des circuits est modifiée pour obtenir une structure tolérante aux fautes. Cette structure est ensuite étudiée et testée pour savoir dans quelles mesures, elle permet d'augmenter le rendement de fabrication.
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Dates and versions

lirmm-00341806 , version 1 (26-11-2008)

Identifiers

  • HAL Id : lirmm-00341806 , version 1

Cite

Julien Vial, Alberto Bosio, Patrick Girard, Christian Landrault, Serge Pravossoudovitch, et al.. Améliorer le rendement grâce aux structures tolérantes aux fautes. Journées des Doctorants de l'Ecole Doctorale I2S, France. ⟨lirmm-00341806⟩
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