Tolérer Plus pour Fabriquer Plus

Résumé : Les processus de fabrication des technologies nanométriques engendrent de plus en plus de défauts de fabrication et les rendements sont de plus en plus faibles. Pour améliorer ces rendements, les structures tolérantes aux fautes pourraient être utilisées, dans le futur, avec l'objectif de tolérer les défauts de fabrication pour fabriquer plus de circuits qui fonctionnent. Ces structures seraient alors détournées de leur objectif actuel qui est de tolérer des défauts en ligne (pendant le fonctionnement du circuit). Dans cet article, l'architecture des circuits est modifiée pour obtenir une structure tolérante aux fautes. Cette structure est ensuite étudiée et testée pour connaître sa tolérance aux défauts. Ainsi, plus une structure tolère de défauts, plus le nombre de circuits fabriqués qui fonctionnent est important.
Type de document :
Communication dans un congrès
Colloque GDR SoC-SiP, France. 2008
Liste complète des métadonnées

https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00341812
Contributeur : Arnaud Virazel <>
Soumis le : mercredi 26 novembre 2008 - 09:58:58
Dernière modification le : vendredi 2 mars 2018 - 19:36:02

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00341812, version 1

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Citation

Julien Vial, Alberto Bosio, Patrick Girard, Christian Landrault, Serge Pravossoudovitch, et al.. Tolérer Plus pour Fabriquer Plus. Colloque GDR SoC-SiP, France. 2008. 〈lirmm-00341812〉

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