Benefit on Interconnect Performance of a Relaxed Wire Density in a 45 nm Node of the Back End of Line

Type de document :
Communication dans un congrès
IEEE 14th Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Germany. pp.9, 2010
Liste complète des métadonnées

https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00485629
Contributeur : Martine Peridier <>
Soumis le : vendredi 21 mai 2010 - 11:53:19
Dernière modification le : jeudi 24 mai 2018 - 15:59:24

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00485629, version 1

Citation

Sébastien De Rivaz, Alexis Farcy, Denis Deschacht, Thierry Lacrevaz, Bernard Flechet. Benefit on Interconnect Performance of a Relaxed Wire Density in a 45 nm Node of the Back End of Line. IEEE 14th Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Germany. pp.9, 2010. 〈lirmm-00485629〉

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