Delay Testing Viability of Gate Oxide Short Defect

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Journal of Computer Science and Technology, Iberoamerican Science & Technology Education Consortium, 2005, 20 (2), pp.195-200
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Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : mercredi 11 octobre 2006 - 07:51:26
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:27:18

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  • HAL Id : lirmm-00105323, version 1

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Jean-Marc Galliere, Michel Renovell, Florence Azaïs, Yves Bertrand. Delay Testing Viability of Gate Oxide Short Defect. Journal of Computer Science and Technology, Iberoamerican Science & Technology Education Consortium, 2005, 20 (2), pp.195-200. 〈lirmm-00105323〉

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