A Non-Split Model for Realistic Gate Oxide Short in CMOS Technology

Michel Renovell 1 Jean-Marc Galliere 1 Florence Azaïs 1 Yves Bertrand 1
1 SysMIC - Conception et Test de Systèmes MICroélectroniques
LIRMM - Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
keyword : CMOS
Type de document :
Communication dans un congrès
DCIS: Design of Circuits and Integrated Systems, 2002, Santander, Spain. 17th International Conference on Design of Circuits and Integrated Systems, pp.197-204, 2002
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Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : mardi 1 avril 2008 - 09:27:18
Dernière modification le : vendredi 20 juillet 2018 - 12:34:01

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  • HAL Id : lirmm-00268432, version 1

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Citation

Michel Renovell, Jean-Marc Galliere, Florence Azaïs, Yves Bertrand. A Non-Split Model for Realistic Gate Oxide Short in CMOS Technology. DCIS: Design of Circuits and Integrated Systems, 2002, Santander, Spain. 17th International Conference on Design of Circuits and Integrated Systems, pp.197-204, 2002. 〈lirmm-00268432〉

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