Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration

Type de document :
Communication dans un congrès
9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184, 2002
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Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : mardi 1 avril 2008 - 09:27:33
Dernière modification le : mardi 16 janvier 2018 - 15:54:15

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  • HAL Id : lirmm-00268501, version 1

Citation

Denis Deschacht, Fabrice Huret. Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration. 9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184, 2002. 〈lirmm-00268501〉

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