Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration

Denis Deschacht 1 Fabrice Huret 2, 3
1 SysMIC - Conception et Test de Systèmes MICroélectroniques
LIRMM - Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
2 Lab-STICC - Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (UMR 3192)
3 LEST - Laboratoire d'Electronique et Systèmes de Télécommunications
Document type :
Conference papers
Complete list of metadatas
https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00268501
Contributor : Christine Carvalho de Matos <>
Submitted on : Tuesday, April 1, 2008 - 9:27:33 AM
Last modification on : Thursday, October 17, 2019 - 12:34:55 PM

Identifiers

  • HAL Id : lirmm-00268501, version 1

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CNRS | LAB-STICC_UBO | INSTITUT-TELECOM | UNIV-BREST | SYSMIC | LAB-STICC | LIRMM | LIRMM_MIC | MIC | MIPS | UNIV-MONTPELLIER

Citation

Denis Deschacht, Fabrice Huret. Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration. 9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184. ⟨lirmm-00268501⟩

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