Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration

Denis Deschacht 1 Fabrice Huret 2, 3
1 SysMIC - Conception et Test de Systèmes MICroélectroniques
LIRMM - Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
2 Lab-STICC - Laboratoire des sciences et techniques de l'information, de la communication et de la connaissance (UMR 3192)
3 LEST - Laboratoire d'Electronique et Systèmes de Télécommunications
Type de document :
Communication dans un congrès
9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184, 2002
Liste complète des métadonnées
https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00268501
Contributeur : Christine Carvalho de Matos <>
Soumis le : mardi 1 avril 2008 - 09:27:33
Dernière modification le : jeudi 24 mai 2018 - 15:59:24

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00268501, version 1

Collections

LAB-STICC_UBO | UNIV-BREST | SYSMIC | LAB-STICC | LIRMM | LIRMM_MIC | MIC | MIPS | UNIV-MONTPELLIER

Citation

Denis Deschacht, Fabrice Huret. Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration. 9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184, 2002. 〈lirmm-00268501〉

Exporter

BibTeX TEI DC DCterms EndNote

Partager

Métriques

Consultations de la notice

162

Contact

support.ccsd.cnrs.fr
hal.support@ccsd.cnrs.fr
Logo CCSD