Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration - LIRMM - Laboratoire d’Informatique, de Robotique et de Microélectronique de Montpellier Accéder directement au contenu
Communication Dans Un Congrès Année : 2002

Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration

Christine Carvalho De Matos  : Connectez-vous pour contacter le contributeur

https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00268501

Soumis le : mardi 1 avril 2008-09:27:33

Dernière modification le : vendredi 24 mars 2023-14:52:50

Fichier non déposé

Dates et versions

lirmm-00268501 , version 1 (01-04-2008)

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00268501 , version 1

Citer

Denis Deschacht, Fabrice Huret. Impact of Low-K Intra-Layer Dielectrics on Integration. 9th IEEE Workshop on Signal Propagation on Interconnects, Pisa, Italy. pp.181-184. ⟨lirmm-00268501⟩

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