A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology

Type de document :
Communication dans un congrès
DTIS: Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era, 2011, Athènes, Greece. 2011
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Contributeur : Martine Peridier <>
Soumis le : vendredi 2 décembre 2011 - 15:43:37
Dernière modification le : jeudi 11 janvier 2018 - 06:27:19

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  • HAL Id : lirmm-00647750, version 1

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Citation

Pierre-Didier Mauroux, Arnaud Virazel, Alberto Bosio, Luigi Dilillo, Patrick Girard, et al.. A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology. DTIS: Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era, 2011, Athènes, Greece. 2011. 〈lirmm-00647750〉

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