A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology

Pierre-Didier Mauroux 1 Arnaud Virazel 2 Alberto Bosio 2 Luigi Dilillo 2 Patrick Girard 2 Serge Pravossoudovitch 2 Benoît Godard 3 Gilles Feste 3 Laurent Vachez 3
1 LIRMM - Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
2 SysMIC - Conception et Test de Systèmes MICroélectroniques
LIRMM - Laboratoire d'Informatique de Robotique et de Microélectronique de Montpellier
3 ATMEL - Atmel Corporation
Type de document :
Communication dans un congrès
DTIS: Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era, 2011, Athènes, Greece. 2011
Liste complète des métadonnées
https://hal-lirmm.ccsd.cnrs.fr/lirmm-00647750
Contributeur : Martine Peridier <>
Soumis le : vendredi 2 décembre 2011 - 15:43:37
Dernière modification le : vendredi 2 mars 2018 - 19:36:02

Identifiants

  • HAL Id : lirmm-00647750, version 1

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Citation

Pierre-Didier Mauroux, Arnaud Virazel, Alberto Bosio, Luigi Dilillo, Patrick Girard, et al.. A DfT Solution for Oxide Thickness Varitions in ATMEL eFlash Technology. DTIS: Design and Technology of Integrated Systems in Nanoscale Era, 2011, Athènes, Greece. 2011. 〈lirmm-00647750〉

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